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本发明公开了一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺,其工艺步骤如下:该半导体废水主要分三大类:包括含铜,镍,锡重金属废、含氟离子废水,其处理工艺流程如下:首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水,分流单独处理,重金金属废水和含...该专利属于上海三邦水处理技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海三邦水处理技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺,其工艺步骤如下:该半导体废水主要分三大类:包括含铜,镍,锡重金属废、含氟离子废水,其处理工艺流程如下:首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水,分流单独处理,重金金属废水和含...