温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,用于改善显示装置显现过亮或过暗的条纹的问题。该阵列基板包括:衬底;多条第一栅线,位于衬底的一侧,且沿第一方向延伸;第一绝缘层,位于多条第一栅线远离衬底的一侧;多条第二栅线,位于...该专利属于合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。