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本发明题为“掺入离子的等离子喷涂的羟基磷灰石涂层及其制备方法”。本发明提供了一种涂覆的植入物，其包括涂层，该涂层包括掺杂的羟基磷灰石部分和未掺杂的羟基磷灰石部分。该涂覆的植入物可通过用包含掺杂剂金属的溶液处理羟基磷灰石涂层来形成。...
该专利属于德普伊新特斯产品公司所有，仅供学习研究参考，未经过德普伊新特斯产品公司授权不得商用。

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