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本实用新型公开了一种高强度抗压型下盖结构，包括下盖壳体，所述下盖壳体呈弧形设置，所述下盖壳体的上端设有弧形腔以及位于弧形腔两侧的侧端腔，所述下盖壳体的上端侧边设有边沿，所述侧端腔的两端设有贯穿孔，所述弧形腔的四个拐角处设有内部呈通孔设置的筒...
该专利属于苏州工业园区宏图精密科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州工业园区宏图精密科技有限公司授权不得商用。

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