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本工艺发明属于在锗硅光学镜头（片）上镀红外超硬膜技术。是在溅射机中，充入丁烷和氩气的混合气体，选择适当的射频电压产生辉光放电，使混合气体电离，在电场作用下，使正离子撞击到负电极上沉积薄膜的方法，从而使锗硅镜头（片）上获得类金刚石超硬膜。本发...
该专利属于昆明物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过昆明物理研究所授权不得商用。

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