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本发明涉及一种接触层(8)，其通过离心步骤在第一金属元件(7)的内表面(7B)上通过沉积方法形成。本发明还涉及一种铰接部件(1)，其包括具有设置该第一接触层(8)的表面(7B)的第一金属元件(7)，以及具有第二表面(3B)的第二金属元件(3...该专利属于斯凯孚公司;斯凯孚航空法国公司所有，仅供学习研究参考，未经过斯凯孚公司;斯凯孚航空法国公司授权不得商用。
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本发明涉及一种接触层(8)，其通过离心步骤在第一金属元件(7)的内表面(7B)上通过沉积方法形成。本发明还涉及一种铰接部件(1)，其包括具有设置该第一接触层(8)的表面(7B)的第一金属元件(7)，以及具有第二表面(3B)的第二金属元件(3...