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本发明涉及在低共熔离子液体中制备空心核壳结构金属化合物,所述化合物包括金属化合物构成的核体，以及包覆核体的金属化合物的壳层，所述化合物包括但不限于金属氧化物、金属硫化物、金属硒化物、金属磷化物、金属锑化物、金属氟化物。本发明过渡金属化合物前...
该专利属于毛小林所有，仅供学习研究参考，未经过毛小林授权不得商用。

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