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一种静电雾化化学气相淀积氧化镓薄膜系统，本发明属于化学气相淀积的材料生长领域。本发明主要解决雾化气相淀积氧化镓薄膜过程中雾滴粒径及运动控制问题。一种静电雾化化学气相淀积方法，本方法将镓盐溶液静电雾化作为镓源，在反应腔中进行化学反应；利用反应...
该专利属于天津工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津工业大学授权不得商用。

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