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用于基于荧光的成像和白光成像的盖布包括盖布主体。盖布主体被配置为限制包括光的电磁辐射穿过盖布主体到达由盖布主体限定的内部成像环境，使得在内部成像环境内包括环境光的电磁辐射不超过预定阈值。盖布还包括永久性地联接到盖布主体的连接元件。连接元件在...
该专利属于莫勒库莱特股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过莫勒库莱特股份有限公司授权不得商用。

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