温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种用于仅将一定长度的光纤的一个经选择的部分暴露到一个氢气氛的掺氢过程的设备，该设备包括一个至少包封光纤的经选择的部分并且保持氢气氛的掺氢腔。至少一个加热元件局部加热包围经选择的部分的氢气氛。该加热元件可将氢气氛加热到至少２５０℃的温度。...
该专利属于3M创新有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过3M创新有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。