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本实用新型提供一种新型曝光系统，包括：第一晶圆，第一晶圆吸盘，第二晶圆，第二晶圆吸盘，分布式照明光源，长度测量机构，间隔球，晶圆对准机构，驱动机构，控制器，计算机。通过晶圆对准机构精密调节第一晶圆与第二晶圆之间的距离，通过分布式照明光源，每...
该专利属于拾斛科技(南京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拾斛科技(南京)有限公司授权不得商用。

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