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这项发明提供众多的显微结构，每种显微结构都有止于峰顶的至少第一侧面和至少第二侧面。至少若干峰顶可以包括升高部分，以便把所述峰顶与毗邻的光学薄片、表面、薄膜、基体或其它层隔开，将浸湿、牛顿环、磨损、莫阿干涉条纹或其它不理想的光学条件减到最少。...
该专利属于瑞弗莱克塞特公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞弗莱克塞特公司授权不得商用。

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