专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
皮雷利C·有限公司
>
与外部光场有低耦合损耗的集成光波导结构制造技术
>技术资料下载
下载与外部光场有低耦合损耗的集成光波导结构的技术资料
文档序号:2670940
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种集成光波导结构,包括:用于引导光场并形成在下包层(111)上的波导芯(113)。波导芯包括:与下包层基本共同延伸并有基本均匀厚度(t)的波导芯层(113a),和有基本均匀高度(h-t)的波导芯肋(113b),波导芯肋从波导芯层表面突出,...
该专利属于皮雷利&C.有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过皮雷利&C.有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。