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一种用于４４１．６纳米波段的高密度矩形深刻蚀石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为３２８－３４１纳米，刻蚀深度为１．２９０－１．３４０微米，光栅的占空比为１／２。...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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