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一种SiC沟槽MPS二极管及其制造方法技术
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文档序号:26692405
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本发明公开了一种SiC沟槽MPS二极管,包括衬底上表面向上依次外延有n型缓冲层、n型漂移区、p型轻掺杂区,p型轻掺杂区上表面靠近内侧设置有多个p型发射区;相邻p型发射区之间设置有矩形沟槽,每个矩形沟槽的底面均嵌入p型轻掺杂区中,矩形沟槽的底...
该专利属于西安理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安理工大学授权不得商用。
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