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本发明涉及膜装置的制备方法，该方法在于：提供基体（２４）；沉积液体（１６）到该基体；并且通过低压沉积方法，用形成所述膜的塑性材料的均匀连续薄膜（１８）覆盖所述液体（１６）和至少与所述液体（１６）邻接的基体部分。...
该专利属于ARC工程学院所有，仅供学习研究参考，未经过ARC工程学院授权不得商用。

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