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抗辐射结构制造技术
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文档序号:2665334
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本发明提供一种抗辐射结构,包括一基材;一反射层,邻接该基材之上;以及一周期性光栅,邻接该反射层。本发明亦提供另一种抗辐射结构,包括一基材,及一周期性光栅邻接该透明基材。上述的抗辐射结构可反射或绕射特定波段的入射辐射。...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有,仅供学习研究参考,未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。
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