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本发明提供一种绝缘栅双极型晶体管及其制造方法,通过执行离子注入工艺,在暴露的半导体衬底内形成掺杂区;执行热氧化工艺,使所述掺杂区内的离子扩散以形成阱区,并在所述阱区上形成热氧化材料层,所述热氧化材料层包括第一部分和第二部分;接着,去除所述热...该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种绝缘栅双极型晶体管及其制造方法,通过执行离子注入工艺,在暴露的半导体衬底内形成掺杂区;执行热氧化工艺,使所述掺杂区内的离子扩散以形成阱区,并在所述阱区上形成热氧化材料层,所述热氧化材料层包括第一部分和第二部分;接着,去除所述热...