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本发明提供一种实现高通量并行激光扫描直写光刻的方法，包括步骤：1)生成由多束子光束组成的高通量并行刻写光束；2)独立控制高通量并行刻写光束中各子光束的通断；3)将高通量并行刻写光束聚焦在光刻样品上；4)高通量并行刻写光束水平扫描配合光刻样品...
该专利属于浙江大学;杭州柏纳光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学;杭州柏纳光电有限公司授权不得商用。

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