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本发明公开了一种超薄多层膜的集成式加工设备及应用方法，所述集成式加工设备包括：包括磁控溅射腔体的超高真空多靶磁控溅射设备；包括快速进样腔体的快速进样室，其通过第一闸板阀与所述磁控溅射腔体法兰密封连接，所述快速进样腔体外连接有各种附属配件；调...
该专利属于北京航空航天大学合肥创新研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学合肥创新研究院授权不得商用。

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