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流体喷射设备包括多个喷嘴和多个喷射室,所述喷射室包括流体耦合到相应喷嘴的相应喷射室。多个入口通路流体耦合到喷射室,并且在第一压力下将流体输入到喷射室。多个出口通路流体耦合到喷射室,并且在小于第一压力的第二压力下从喷射室输出流体。流体基于第一...该专利属于惠普发展公司,有限责任合伙企业所有,仅供学习研究参考,未经过惠普发展公司,有限责任合伙企业授权不得商用。
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流体喷射设备包括多个喷嘴和多个喷射室,所述喷射室包括流体耦合到相应喷嘴的相应喷射室。多个入口通路流体耦合到喷射室,并且在第一压力下将流体输入到喷射室。多个出口通路流体耦合到喷射室,并且在小于第一压力的第二压力下从喷射室输出流体。流体基于第一...