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本发明提供了一种半导体制冷元件的制造工艺及元件，属于热电体制冷器制造领域，该制造工艺使用刻蚀、光刻等制造工艺和大批量的并行制造过程，不需要组装、调整，能够有效地提高半导体制冷元件的生产效率，降低半导体制冷元件的体积，使得半导体制冷元件适应狭...
该专利属于上海商皓电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海商皓电子科技有限公司授权不得商用。

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