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本发明属于真空镀膜涂层制备领域，具体涉及一种采用增强辉光放电复合调制强流脉冲电弧制备的ta‑C涂层及制备方法。采用增强辉光放电沉积纯金属作或化合物层为基础层，并通过利用脉冲弧源在调制脉冲高偏压下形成注入层，同时形成ta‑C膜的形核点，促进t...
该专利属于温州职业技术学院所有，仅供学习研究参考，未经过温州职业技术学院授权不得商用。

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