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本发明涉及一种源漏电极的制备方法、阵列基板的制备方法和显示机构。该源漏电极的制备方法包括如下步骤：在衬底上设置导电层；在导电层远离衬底的一侧形成光刻胶层；对光刻胶层进行曝光处理，再经显影而在光刻胶层上形成贯通光刻胶层的凹槽，形成具有图案的光...该专利属于北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司授权不得商用。