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本申请实施例提供一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板，该阵列基板包括：基板、半导体层、栅极层以及源漏层。本申请采用半导体层和源漏层替换相关技术中形成第一电压线的第二栅极层(GE2)，能够在制程中省去GE2的成膜、曝光、显影、刻蚀、剥离工...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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