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一种非常规气藏流场结构识别方法及装置制造方法及图纸
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文档序号:26505730
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本公开提供一种非常规气藏流场结构识别方法和装置。非常规气藏包括至少一口水平井,在忽略井间干扰的情况下,对于所述至少一口水平井中的任一口水平井,非常规气藏流场结构识别方法包括:在压裂液返排阶段,获取第一生产数据,并根据第一生产数据绘制压裂液返...
该专利属于北京科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京科技大学授权不得商用。
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