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一种基于物理成像特征图与DCNN机器学习逆向光刻解的计算方法，包括将光刻目标图案基于光学标尺K...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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