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本发明涉及用于量子点阻挡肋的结构及其制备方法。本发明的用于量子点阻挡肋的结构包括具有均匀的膜厚度和适当的膜厚度范围的固化膜。在此，减小通过SCI(包括镜面反射分量)方法测量的反射率R...
该专利属于罗门哈斯电子材料韩国有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料韩国有限公司授权不得商用。

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