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本发明涉及纳米技术和高分子技术，具体的说是一种壳层多孔的聚吡咯中空纳米微球和它的制备方法及其应用，其制备过程可按以下方法进行：即在氧化剂氯化铁的作用下，吡咯单体低温下在纳米二氧化硅模板表面发生聚合反应，之后用氢氟酸刻蚀，除去模板后形成中空结...
该专利属于天津工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津工业大学授权不得商用。

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