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本实用新型涉及一种真空定位吸附装置，包括吸附底座、盖设在吸附底座上端的亚克力盖板、设置在吸附底座与亚克力盖板之间的托架及若干料盘；所述吸附底座内部具有真空腔，上端面具有与真空腔相连通的置物腔，所述真空腔与置物腔之间通过若干真空孔相连通；所述...
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