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一种电光晶体薄膜及其制备方法,及电光调制器技术
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文档序号:26416683
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本申请提供一种电光晶体薄膜及其制备方法,及电光调制器,其中,所述电光晶体薄膜从下到上依次包括:硅衬底层、二氧化硅层、硅基槽波导层、包覆隔离层和功能薄膜层;所述包覆隔离层的折射率低于所述功能薄膜层的折射率,所述包覆隔离层做平坦化处理,且可与所...
该专利属于济南晶正电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过济南晶正电子科技有限公司授权不得商用。
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