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本发明提供了一种磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机及其镀膜工艺，属于镀金属膜设备技术领域。它解决了现有不同的金属靶材其溅射出的靶材原子在各个靶材表面沉积的问题。本磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机，包括真空室以及设置于真空室内的卷绕系统、溅射源...
该专利属于温岭市华航电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过温岭市华航电子科技有限公司授权不得商用。

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