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基板处理系统及基板处理方法、以及组件制造方法技术方案
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文档序号:26374400
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本发明的光刻系统(1000),具备:测量被保持在第1载台的基板上的多个标记的位置信息的测量装置(100)、将结束了标记的位置信息的测量的基板载置于第2载台上并进行测量该基板上的多个标记中所选择的部分标记的位置信息的对准测量及曝光的曝光装置(...
该专利属于株式会社尼康所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社尼康授权不得商用。
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