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本发明适用于光电探测技术领域,提供了一种紫外光电二极管及其制备方法,该方法包括:在衬底上依次制备第一接触层和台面结构,并在第一接触层上除台面结构之外区域制备下电极,形成第一样品;将制备的多层石墨烯薄膜转移到第一样品表面并刻蚀,在台面结构表面...该专利属于中国电子科技集团公司第十三研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第十三研究所授权不得商用。
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本发明适用于光电探测技术领域,提供了一种紫外光电二极管及其制备方法,该方法包括:在衬底上依次制备第一接触层和台面结构,并在第一接触层上除台面结构之外区域制备下电极,形成第一样品;将制备的多层石墨烯薄膜转移到第一样品表面并刻蚀,在台面结构表面...