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一种基于多边形区域表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所述方法利用多个方向上的宽度构造多边形区域表征掩模图形的主要频率特征，并基于多边形区域设计主要频率之间的覆盖规则、主要频率聚类方法和关键图形筛选方法，实现了全芯片光源掩模优化关键图...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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