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本发明公开了一种气压加速型核酸印迹转膜装置及其转膜方法。现有转膜装置的转膜通常需要16‑18h，过程较长。本发明包括底板、充气仓、中间转膜平台、进气管和气源。充气仓安装在底板上。充气仓的内腔通过一根或多根进气管与气源连接。所述的中间转膜平台...
该专利属于杭州师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过杭州师范大学授权不得商用。

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