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本公开揭示一种用于校准系统中的仪表的方法，其中若干仪表（１，ｊ）用来测量要求的量；一个采集仪表（４）用来测量形成前述若干仪表（１）的总量的量。根据本发明，若干仪表（１）和采集仪表（４）两者的测量结果被反复地和至少近乎同时地记录；并从记录的测...
该专利属于芬兰国立技术研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过芬兰国立技术研究中心授权不得商用。

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