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本实用新型提供了一种薄膜制备设备，镀膜室包括n个间隔排列的阴极靶、n个溅射电源、与阴极靶相对设置的基座、将每个阴极靶的镀膜区等分成n个沉积区的分区装置、控制装置，控制装置根据待制备薄膜n行m列个单元的膜厚数据、n个阴极靶的n个沉积区的沉积速...
该专利属于杭州朗旭新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州朗旭新材料科技有限公司授权不得商用。

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