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本发明公开了一种高亮度深紫外LED芯片及其制作方法,所述高亮度深紫外LED芯片,包括外延层,所述外延层包括缓冲层,依次叠加设置在缓冲层上的N型GaN层,量子阱结构及P型GaN层,所述缓冲层相对于设置N型GaN层的另一面设置有纳米级图形。所述...该专利属于黄山博蓝特半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过黄山博蓝特半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种高亮度深紫外LED芯片及其制作方法,所述高亮度深紫外LED芯片,包括外延层,所述外延层包括缓冲层,依次叠加设置在缓冲层上的N型GaN层,量子阱结构及P型GaN层,所述缓冲层相对于设置N型GaN层的另一面设置有纳米级图形。所述...