专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
昆明理工大学
>
一种沿一维链状带方向择优生长的硫化锑薄膜及其制备方法技术
>技术资料下载
下载一种沿一维链状带方向择优生长的硫化锑薄膜及其制备方法的技术资料
文档序号:26261501
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开沿一维链状带方向择优生长的硫化锑薄膜及其制备方法。本发明在等离子发生器的电场作用下,惰性气体,如氩气经过电场作用后等离子化获得高活性的氩离子和电子;高活性氩离子和电子相互碰撞回归基态,释放能量使得环境温度升高,升高的环境温度可以促...
该专利属于昆明理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过昆明理工大学授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。