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本发明涉及溅射镀膜技术领域，公开了一种膜层的制备方法和反应腔室，用以减少阳极消失、靶溅射不均匀等原因引起的成膜问题。其中膜层的制备方法包括：向孪生靶输入双极性波的中频交流电进行溅射，并控制孪生靶中的两个靶向相反的方向转动；输送衬底至溅射区域...
该专利属于领凡新能源科技(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过领凡新能源科技(北京)有限公司授权不得商用。

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