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本发明属于薄膜制备领域，具体属于后处理制备梯度带隙钙钛矿薄膜的装置及方法。包括加热基板；加热基板上端设有气氛保护罩，气氛保护罩内的加热基板上端连接有两个高度相等且平行的垫块，垫块上方放置有涂覆有薄膜的基底；基底下方的加热基板上设有机卤化胺盐...
该专利属于中国电子科技集团公司第十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第十八研究所授权不得商用。

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