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一种膜层的构图方法，包括：提供具有第一表面(11)的膜层(1)；在膜层(1)的第一表面(11)上形成n个刻蚀阻挡层(21，22)，n为大于等于2的整数；以及利用n个刻蚀阻挡层(21，22)作为掩模对膜层(1)进行n次刻蚀而在第一表面(11)...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司授权不得商用。