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本发明公开了一种具有中子慢化和中子屏蔽及冷却功能的真空室，所述真空室的器壁采用内外壁夹层焊接结构，包括：真空室内壁和真空室外壁，所述真空室内壁与真空室外壁焊接为一体，所述真空室内壁与真空室外壁之间形成一个夹层，焊接前在夹层内放置用于吸收中子...
该专利属于北京利方达真空技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京利方达真空技术有限责任公司授权不得商用。

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