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本发明提供一种等离子沉积设备，用于对靶棒进行沉积处理，包括支架、安装于所述支架上的传动组件、若干温控组件及等离子组件，所述传动组件与所述靶棒连接，所述温控组件安装于所述靶棒周侧，以控制所述靶棒温度，所述等离子组件一端靠近所述靶棒，以对所述靶...
该专利属于中天科技精密材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中天科技精密材料有限公司授权不得商用。

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