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本发明公开了一种高温材料平面氧化层处理机，其技术方案要点是：包括运输组件、抛光组件、抵触组件、加工架和机架，所述运输组件架设在加工架前端，所述抵触组件位于加工架后端，所述运输组件正对抵触组件，所述加工架可伸缩架设在机架上，所述运输组件与抵触...
该专利属于张秀聪所有，仅供学习研究参考，未经过张秀聪授权不得商用。

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