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本发明属于单晶清洗技术领域，尤其是一种单晶硅片清洗装置及工艺，包括十个连续设置的清洗槽以及用于放置单晶硅片的过滤篮；十个清洗槽依次为第一浸泡槽、第二超声溢流槽、第三超声清洗槽、第四超声清洗槽、第五超声溢流槽、第六有机清洗槽、第七溢流清洗槽、...
该专利属于江苏高照新能源发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏高照新能源发展有限公司授权不得商用。

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