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本发明公开了一种制备熵稳定陶瓷薄膜涂层的方法，包括制备由多种金属元素形成的第一层，以及使第一层与阴离子反应从而将第一层的至少一部分转变成第二层。本发明还公开了一种熵稳定陶瓷薄膜涂层以及涂覆有熵稳定陶瓷薄膜涂层的元件。...
该专利属于香港城市大学所有，仅供学习研究参考，未经过香港城市大学授权不得商用。

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