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本实用新型涉及光学薄膜制备技术领域，尤其涉及一种近红外滤光片，其特征在于：包括交替堆叠的高折射率层和低折射率层，其中所述高折射率层为掺碳氢化硅层或掺碳氢化锗层。本实用新型的优点是：达到高截止深度、低角度效应、高透过率的目的；晶格结构规则、缺...
该专利属于光驰科技(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技(上海)有限公司授权不得商用。

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