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与微机电系统工艺兼容的参比电极的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：　　　　首先将设计好的电极系统版图利用微电子工艺制作掩摸板，基片在清洗液中清洗后烘干再旋涂光刻胶即可以用掩摸板进行曝光、显影，然后在经过了显影的基片上溅射相同的贵金属...
该专利属于中国科学院电子学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院电子学研究所授权不得商用。

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